檢索結果：共12筆資料 檢索策略： "光譜儀".ckeyword (精準) and ckeyword.raw="光譜儀"
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本研究為400~1100 nm凹面光柵高光譜儀光學系統之設計與驗證。以二維曲面光柵為主進行凹面光柵高光譜儀光學系統之設計，考慮五種不同光柵的設計參數，其中有出入射臂長與夾角、光源發散角、反射鏡安裝位…
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本研究為設計波段400 – 1000 nm的Offner光譜儀與成像分析，本研究提供一套Offner光譜儀的設計流程，並利用Code V建模且進行初步分析，觀察此系統是否達到設計者的需求，確定設計合…
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在高光譜成像系統的開發過程當中，而在此系統中，一個能夠使得入射光同時於偵測器上水平及垂直方向聚焦的光柵系統為最關鍵的元件之一。本研究期望能夠藉由設計一可變條紋間距式之光柵使得高光譜成像系統不需如傳統…
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光譜儀的製作過程中，分為硬體與軟體，直接出廠的硬體設備無法量測到精準的光譜，必須將製作好的硬體設備經過校正系統後，才可以量測出最接近實際值的光譜參數，本研究的校正系統分為三大部分，依照校正順序依次為…
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本系統主要在光譜儀分析模擬，利用TracePro7軟體光跡模擬羅倫圓光柵分光特性。利用光柵反射出光線，於各波長主中軸上設置了一系列偵測面，藉由偵測面的輻照圖(斑點圖)，搭配Matlab軟體分析得到各…
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本研究欲設計波段400－1000 nm Offner形式的可見光波段微型光譜影像儀，將光譜儀的體積大幅縮小，使光譜儀增加攜帶的方便性，亦降低光譜儀的製作成本。並利用市售的光學機構、元件組裝進行初步的…
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本研究首先詳細說明雙橢圓曲面光柵（DEG）系統，包括光路徑函數及像差係數的分析，利用費馬原理與座標轉換求出雙橢圓曲面光柵中的像平面上之像差。但是因為固定曲率的關係，DEG系統的像差無法被調整。 將D…
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本文將採用二階線性漸變濾波器(second-order Linear Variable Filter, LVF) 通用設計流程開發技術，以能適用於市面上大部分之蒸鍍機台，與模型參數自由調控的開放參數…
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半導體材料及製程技術的進步，發光二極體(Light Emitting Diode)顏色及亮度有大幅度地改善。由於發光二極體光譜分布比較窄，可利用不同波長發光二極體和調整發光二極體的光譜強度之參數值，…
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光譜理論發展至今已有三百多年的歷史，而藉此發展的光譜儀則廣泛地運用在天文、衛星遙測、醫藥、工業等光譜量測用途上。然而，光譜訊號容易因量測儀器之硬體或量測環境所影響，產生不可預期的雜訊。 本論…